光刻机/紫外曝光机（mask aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 mask alignment system.
光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作，在进行调整时，以下几点准则应当遵循：
●匹配使用的光刻机，首先应该是各单台光刻机调整到设备本身的最.佳状态，各项技术指标必须在设备规定的范围之内。
●设备进行匹配调整时，凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整，因为软件调整是可改变的，可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差，特别是有严格精度要求的，基本上没有硬件调整的余地。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
性能指标光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
张家港晋宇达电子科技有限公司
13338760999
中国 苏州